W dniu 25.11.2021 r. na środowisku produkcyjnym została wdrożona nowa wersja Systemu POL-on 2.0, która zawiera zmiany dotyczące modułu Patenty i prawa ochronne.
- W związku z licznymi zgłoszeniami dotyczącymi jakości danych w zewnętrznych źródłach oraz konieczności ich modyfikacji została zdjęta blokada edycji danych o patentach i wzorach użytkowych pobranych z zewnętrznych źródeł.
- W zakresie danych o patentach (sekcja Pierwszeństwo ochrony) dodano dodatkowe pole „Numer zgłoszenia w UPRP” – w celu uwzględnia w ewaluacji przypadków, w których patent zagraniczny posiada uprzednie pierwszeństwo poza Polską. Uprzejmie prosimy o uzupełnienie wartości ww. pola dla patentów zagranicznych, w których uprzednie pierwszeństwo wskazane jest na inny kraj niż Polska.