W dniu 4.02.2021 r w POL‑on 2.0 udostępniony został moduł Patenty i prawa ochronne (REST API oraz moduł w aplikacji webowej).
Zachęcamy do zapoznania się z dedykowanymi wpisami (dotyczącymi wyglądu i zawartości modułu oraz rejestracji danych o osiągnięciach) w pomocy systemu, a także z ofertą szkoleń z zakresu pracy w module.